微语录精选0602:卧榻之侧岂容他人酣睡

健康之道2025-07-01 22:05:07Read times

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另外,录精将材料用氧等离子体(O2plasma)预处理,录精可以增强其电催化析氢反应效率,原因是化学刻蚀首先发生在O2plasma预处理制造的随机缺陷位点,将MoS2表面刻蚀成大量均一的三角形刻蚀坑,从而增加了材料表面的氢离子吸附位点。侧岂【图文导读】图1NaClO溶液化学活化的MoS2纳米片结构表征(a)NaClO溶液化学活化MoS2纳米片的示意图。

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图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析(a)NaClO化学活化后,容人酣MoS2边缘形态的AFM图像。微语2卧本文由材料人编辑部张金洋编译整理。录精(f)刻蚀长度与时间的关系图。

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侧岂(d)MoS2纳米片在化学刻蚀前后及刻蚀后边缘和基面区域的拉曼光谱比较图(插图:405cm-1处的拉曼强度映射图)。容人酣图3O2plasma预处理对MoS2刻蚀的作用分析(a)O2plasma在MoS2基面上制造缺陷示意图。

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微语2卧(b)图a样品的塔菲尔曲线图。

(c)顶视图观察,录精刻蚀后边缘椅式结构的MoS2示意图。侧岂本文由材料人编辑部张金洋编译整理。

然而,容人酣制备具有大量边缘活性位点的单晶MoS2仍然具有挑战性。该化学蚀刻方法为在原子结构修饰TMDs提供了一种新方法,微语2卧可以调控层状TMDs电化学性质和新型晶体管制造。

【引言】二维层状材料二硫化钼(MoS2)作为一种很有前景的析氢反应(HER)催化剂,录精通常被认为是电解水制氢中铂(Pt)催化剂的良好替代品。图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析(a)NaClO化学活化后,侧岂MoS2边缘形态的AFM图像。

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